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Siliziumnitrid-Keramikscheibe

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Siliziumnitrid kann auch auf Solarzellen aufgebracht werden. Nachdem der Siliziumnitridfilm durch PECVD plattiert wurde, kann er nicht nur als Antireflexionsfilm verwendet werden, um die Reflexion von einfallendem Licht zu reduzieren, sondern es treten auch beim Abscheidungsprozess des Siliziumnitridfilms Wasserstoffatome des Reaktionsprodukts ein der Siliziumnitridfilm und der Siliziumwafer. Es wirkt als Passivierungsfehler. Hier ist das Atomverhältnis der Siliciumnitrid-Stickstoffatome nicht streng 4: 3, sondern variiert in einem bestimmten Bereich in Abhängigkeit von den Verfahrensbedingungen, und die physikalischen Eigenschaften des Films, die unterschiedlichen Atomverhältnissen entsprechen, sind unterschiedlich.
Für Ultrahochtemperatur-Gasturbinen, Flugzeugtriebwerke, Elektroöfen usw.
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